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“小眾”氣體三氟化磷

在半導(dǎo)體制造里有何妙用？

三氟化磷氣體是由天津核理化工程研究院的老學(xué)者們研發(fā)。三氟化磷的用途剛開始國內(nèi)只應(yīng)用在離子注入上面。

離子注入是半導(dǎo)體制造中一個很重要的工藝環(huán)節(jié)。不過，三氟化磷的需求量相對較小，在過去的十幾年里，國內(nèi)的需求僅在百公斤級別。主要供應(yīng)給南大光電、上海新進半導(dǎo)體以及其他一些芯片制造廠。

近年來，威斯特在山東東營建立了新的生產(chǎn)基地。在選擇產(chǎn)品時，我們進行了深入地思考?？紤]到雖然三氟化磷的用量不大，但市場上現(xiàn)有的產(chǎn)品大多是試驗級別的，在當(dāng)前安全監(jiān)管日益完善的背景下，這種做法既不合理也不合規(guī)，因此，我們最終決定正式生產(chǎn)這一產(chǎn)品，并將其作為正式項目立項。

在國內(nèi)，三氟化磷主要應(yīng)用于離子注入環(huán)節(jié)。然而，國際上的一些大型企業(yè)，例如日本東芝、美光、三星等，已經(jīng)開發(fā)出了三氟化磷的另一種應(yīng)用——作為刻蝕氣體?？涛g技術(shù)的用量可能會更大。目前，這個產(chǎn)品的發(fā)展方向尚不明朗。韓國、日本等多家大型廠家例如鎧俠等都主動與我們進行了交流和探討。

在國內(nèi)，三氟化磷確實屬于小眾產(chǎn)品。雖然其他企業(yè)可能也在生產(chǎn)，但目前只有我們公司正式立項并申請了許可證。放眼國際，美國也有一家公司在生產(chǎn)，而我們幾乎是同步發(fā)展的。

?那么在三氟化磷的產(chǎn)品研發(fā)上，我們與國際的差距大嗎？

?差距并不大。我們專注于這一領(lǐng)域已有十幾年，對產(chǎn)品有深入的了解。特別是在品質(zhì)控制和雜質(zhì)篩選方面，我們相對有信心。