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一氟甲烷（HFC-41），又名甲基氟、氟甲烷，英文名Methyl Fluoride，CAS號為593-53-3，分子式為CH3F，在常溫、常壓下是一種無色、無嗅的易燃氣體。HFC-41的臭氧消耗潛能值（ODP）為0，全球變暖潛能值（GWP100）為116，大氣壽命為2.8年。

高純HFC-41氣體是一種綠色、高效的新型蝕刻氣，可用于半導體及電子產(chǎn)品的蝕刻，例如可選擇性地蝕刻硅化合物的薄膜。HFC-41用在半導體及電子產(chǎn)品的制程中，在射頻場下其會溶解氟離子，可選擇性的蝕刻硅化合物的薄膜，即反應性離子蝕刻（Reactive-ion Etching）。HFC-41對Si3N4（SiNx）介質(zhì)層的選擇性比Si和SiO2高，可在5-10 nm的厚度內(nèi)，對該介質(zhì)層進行精準刻蝕，刻蝕速率也更高。在實際應用過程中，HFC-41會與氧氣、氮氣、氦氣、氬氣、三氟化氮、二氧化碳中的一種或幾種進行混配，從而同時滿足不同臨界尺寸偏移量和不同掩膜/介質(zhì)層選擇性的工藝需求。